今天给各位分享光刻机是干什么用的的知识，其中也会对芯片进行解释，如果能碰巧解决你现在面临的问题，别忘了关注本站，现在开始吧！

本文目录一览：

• 1、光刻机是干什么用的？
• 2、光刻机是干什么用的
• 3、光刻机是干什么用的？一台价值30亿

光刻机是干什么用的？

光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML（镜头来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的高端光刻机）和日本Canon三大品牌为主。

扩展资料

2019年与2020年在半导体领域，尤其是企业之间，光刻机是被炒得最热的一个话题，再怎么说芯片，最终都会说到光刻机上面去。

可能出口给我们DUV光刻机生产7nm的芯片，却将最先进的EUV光刻机出口给别的企业生产5nm芯片，即使不专门生产芯片的谷歌、高通，ASML也卖他们EUV光刻机。

参考资料：百度百科-光刻机

光刻机是干什么用的

光刻机是芯片制造流程中，光刻工艺的核心设备。

光刻机（Mask Aligner），又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。

其分为两种，一种是模板与图样大小一致的contact aligner，曝光时模板紧贴晶圆；另一种是利用短波长激光和类似投影机原理的步进式光刻机（stepper）或扫描式光刻机（scanner），获得比模板更小的曝光图样。

光刻机分类

光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动。手动，指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；半自动，指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐；自动，指的是从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。

接触式曝光（Contact Printing）：掩膜板直接与光刻胶层接触，曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单，接触式，根据施加力量的方式不同又分为：软接触，硬接触和真空接触。

光刻机是干什么用的？一台价值30亿

光刻机是制造芯片的必备设备。芯片是干什么用的？可能有人会嘲笑这个问题，说它太初级，太简单；是的，有些人可能不知道芯片的用途，但世界上几乎每个人都在使用芯片。这不是夸张，是事实！

芯片的用途：手机、高铁、汽车、电网、家用电器、医疗设备、各种自动化设备等。

芯片的功能：执行运算，处理各种任务，输出数据和指令。芯片这么厉害，怎么做出来的？使用的设备是本文介绍的重要机器——光刻机。

现在很多人说，当年造光刻机比造原子弹还难。是的，这绝对是真的。

现在信息发达；科技进步；先进的设备；有很多专业人士有高深的知识，却做不出光刻机。难度显而易见。

这里有个问题要说明一下：中国也能做芯片，但是质量和规格跟不上当今尖端技术的需求。

今天我们国家能生产16纳米规格的芯片，和国际先进水平差距很大。（有消息说中国已经能做出7 nm光刻机，但没有得到证实。）

荷兰ASML公司据说开发了1纳米芯片掩模对准器；台湾的TSMC和韩国的三星集团争相购买。

谁拥有了设备，谁就能生产出最先进的产品，谁就能占领世界高端芯片市场，就会有大把的钱可赚，都要抢着买。

据说这样一台光刻机设备要花30亿人民币。

世界上生产光刻机最权威、最领先、最有实力的企业是荷兰的ASLM公司。

这个公司不是一兵一卒，有美国和欧盟的大力支持。

光刻机的生产组件来自多个国家，有一万多个组件。

还有另外两家日本公司也生产它们：佳能和尼康。正如你所看到的，这两家公司是世界知名的公司，曾经生产照相机和录像机。但是技术落后于荷兰公司。